第157章 必须形成一定的威慑力！否则可能会

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赵军的演讲很短，主题也非常浅显——他为什么来。

但却让所有人都明白了，为什么半导体行业同盟这么顺利的就搞成了，这么顺利的就拧成了一股绳。

赵军是因为此而来，那么其他人也都差不多。

先不论其他，仅仅是赵军口中，仅仅是有关晶圆产线的这些信息就足够令人咋舌——

中芯国际所有产线的工艺都上升了一个层次，良率和产能都有所提升。

尤其是十倍极限光刻第一次在大众面前得到确认和证实。

这可是一件了不得的大事情。

“十倍分辨率光刻？那岂不是28nm的光刻机，直接就能实现3-nm级别的芯片了？那还要啥的euv啊！”

正在看直播的人们，先是经历了短暂的寂静，而后瞬间欢腾起来。就仿若一枚深水炸弹从水面缓缓沉入水底，不多时爆炸开来。

“咚”的一声，水面上便如天女散花——全网络，什么这热榜那热搜的都不用再说，这个时刻#十倍分辨率光刻#几乎成了全网唯一的话题。

这几年，科技竞争的加剧，阿美瑞肯对国内诸多科技企业一次又一次的限制，让原本对科技、对芯片制造并不关注的人瞬时明白了科技发展的意义，瞬时明白了芯片是什么，是怎么制造的等等等等。

科技竞争的进程，给所有人上了一堂半导体的科普课程。

&nbte60的突然发售，国产先进工艺芯片第一次在世人面前亮相，更是激发了别样的热潮。

不说业内人士和爱好者，就算什么都不懂的普通人，也都知道制造芯片的关键是光刻机了，甚至能头头是道的说一堆诸如duv、euv双重曝光四曝光等一批专业名词了。

而今天，赵军的一番话，#十倍分辨率光刻#一出来，恰逢其会，瞬间引起了轰动与聚变——了解了芯片制造是什么之后的人们更加能够体会其中的强大。

有人瞬间就意识到，这不一下子就赶上世界最顶尖的工艺了吗？2~3nm！

“当然没有这么简单，宏图微电子的产线，实现极限十倍光刻是没错，但极限并不容易达到的。

“出于良率和效率的考量，那边的产线更多的还是在生产40nm的芯片，少部分量产28nm。至于极限22nm，只是理论数据能达到。

“还有就是，工艺越先进，提升越困难，指望28nm级别的光刻机实现2.8nm的工艺是不可能的。顶多，能够达到euv5nm的水准。”

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